YS/T 935-2013
电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
Standard guide for analysis and reporting the impurity content and grade of high purity metallic sputtering targets for electronic thin film applications
2013-10-17发布
2014-03-01实施
前言
本标准按照 GB/T 1.1—2009 给出的规则起草。
本标准参照了 ASTM F2113-01（2011）《电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量的分析及报告标准指南》。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC 243）归口。
1范围
本标准规定了电子薄膜制备用高纯金属溅射靶材的纯度等级的定义方法、杂质含量分析方法、抽样规则及靶材纯度等级报告标准规范等内容。
本标准适用于电子薄膜用各类高纯金属溅射靶材（以下简称靶材）。其他对纯度有较高要求的靶材纯度等级、杂质含量分析及报告规范也可参照使用。
2 规范性引用文件