YS/T 893-2013
电子薄膜用高纯钛溅射靶材
High-purity sputtering titanium target used in electronic film
2014-03-01实施
2013-10-17发布
本标准按照GB/T 1.1 2009给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员（SAC/TC243）归口。
1 范围
本标准规定了电子薄膜用高纯钛溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、败"存及质量证明与合同（订单）等内容。
本标准适用于电子薄膜制造用的各类钛溅射靶材。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注目期的引用文件，仅注日期的版本适用干本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。