ICS 77.150.99 H 68
GB
中华人民共和国国家标准
GB/T34649—2017
磁控溅射用靶
Magnetron sputtering ruthenium target
2018-04-01实施
2017-09-29发布
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局
中国国家标准化管理委员会 发布 GB/T 34649—2017
前言
本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草。 本标准由中国有色金属工业协会提出。 本标准由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC243)归口。 本标准负责起草单位：有研亿金新材料有限公司、有色金属技术经济研究院。 本标准起草人：罗俊锋、丁照崇、李勇军、向磊、万小勇、刘书芹、熊晓东、王庄、贺昕、滕海涛、高岩。
一 GB/T34649—2017
磁控溅射用靶
1范围
本标准规定了磁控溅射用钉靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和
订货单(或合同)内容。
本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钉靶（以下简称钉靶）。
2 规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注目期的版本适用于本文
件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单)适用于本文件
?
GB/T 1804 一般公差未注公差的线性和角度尺寸的公差 GB/T 5163 烧结金属材料（不包括硬质合金）可渗性烧结金属材料 密度、含油率和开孔率的
测定
GB/T 6394 金属平均晶粒度测定方法 GB/T14265 金属材料中氢、氧、氮、碳和硫分析方法通则 GB/T 23275 粉化学分析方法铅、铁、镍、铝、铜、银、金、铂、铱、钯、、硅量的测定 辉光放电
质谱法
YS/T 837 溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法
3术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
3.1
磁控溅射 +physical vapor deposition;PVD 物理气相沉积镀膜的一种方法：通过在靶材表面引人电场和磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提
高等离子体密度，并利用电场对惰性气体（通常为Ar气）粒子加速轰击靶表面，从而溅射出材料原子或原子团，最后沉积形成膜镀层。 3.2
磁控溅射用靶 magnetron sputtering ruthenium target 用金属钉制备的用于磁控溅射的钯材，用于制备钉膜镀层。
4要求
4.1产品分类 4.1.1钉靶按化学成分分为Ru-99.95、Ru-99.99、Ru-99.995、Ru-99.999四个牌号 4.1.2按靶材焊接方式可分为单体型和焊接型，背板材料包括铝合金、铜及铜合金。 4.1.3钉靶按截面形状可分为圆形、矩形和异形（环形、三角形）等。
?
1 GB/T34649—2017
4.2 化学成分
钉靶的化学成分应符合表1的规定
表1 钉靶的化学成分
牌号
Ru-99.95 99.95
Ru-99.99 99.99
Ru-99.995 99.995
Ru-99.999 99.999
钉含量（质量分数）/%，不小于
Ag A1 Au B Ca Co Cr Cu Fe K Li Mg Mn Na Ni P Pb Sn Th Ti U V Zn Zr c N 0 s
2 5 5 2 5 3 3 2 5 5 5 2 2 5 3 5 2 2 0.1 5 0.1 2 2 5 100 50 600 50 50
0.5 2 0.5 0.5 2 1 2 1 2 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 2 0.5 0.5 0.01 5 0.01 1 1 1 100 20 500 20 10
10 一
一一
10 5) L5 5 20 10 10 10 10 10 5) 一 15
30 50 10 100 50 20
杂质元索含量（质量分数）/（×10-4)%
一
不大于
50 50 一一
一
一
10 200 100 1 000 100 100
-
一
气体杂质含量（质量分数)/（×10-+)%
-
不大于
杂质总含量（质量分数）/（×10-*）% 不大于(不包括C、N、S、O)
500
注1：钉含量为100%减去表中所列杂质总含量的余量（不含C、N、O、S)。 注2：需方对杂质元素有特殊要求的，由供需双方协商，注3：“二"表示不作要求。
2 GB/T 34649—2017
6检验规则
6.1 检验和验收
6.1.1钉靶产品应由供方检验部门进行检验，保证产品质量符合本标准和订货单（或合同）的规定，并填写质量证明书。 6.1.2需方应对收到的产品按本标准的规定进行检验。如检验结果与本标准和订货单（或合同)的规定不符，应在收到产品之日起1个月内向供方提出，由供需双方协商解决。如需仲裁，仲裁取样应在需方由供需双方共同进行。 6.2组批
钉靶产品应成批提交验收。每批应由同一牌号和规格的产品组成。 6.3检验项目及取样规定 6.3.1产品应进行化学成分、几何尺寸、平均晶粒尺寸、块体密度、焊接性能、外观质量检验。检验项目、取样位置及数量见表2。
表2检验项目、取样位置及数量
检验项目化学成分几何尺寸平均晶粒尺寸
取样位置随机整体见6.3.2
取样数量
要求的章条号
检验的章条号
每批任取一个坏料，每个坏料取 1个§20mm~$30mm样品
4.2 4.3 4.4
5.1 5.2 5.3
逐件每批任取一个坏料，每个坏料取2个样品每批任取一个坏料，每个坏料取2个样品
块体密度焊接性能外观质量
见6.3.2 整体整体
4.5
5.4
逐件逐件
4.6 4.7
5.5 5.6
6.3.2平均晶粒尺寸及块体密度测定取样：检测在钉靶坏料半成品尺寸加工前进行，取样尺寸为 10mm×10mm~20mm×20mm。取样示意图如图1所示。
样品2
样品2
样品1
样品1
a) 圆形
b）矩形
图1钉靶分析取样示意图
4