GB/T 34649-2017
磁控溅射用钉靶
Magnetron sputtering ruthenium target
2018-04-01 实施
2017-09-29发布
前 言
本标准按照 GB/T 1.1—2009 给出的规则起草。
本标准由中国有色金属工业协会提出。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC243）归口。