ICS 71.040.40 CCS G 04
中华人民共和国国家标准
GB/T40300——2021
微束分析 分析电子显微学 术语
Microbeam analysis-Analytical electron microscopy-Vocabulary
（ISO15932:2013,MOD）
2022-03-01实施
2021-08-20发布
国家市场监督管理总局
国家标准化管理委员会 发布 GB/T40300--2021
目 次
前言引言 1 范围 2 规范性引用文件 3 罐略语 4 分析电子显微学物理基础术语 5 分析电子显微镜仪器术语 6 分析电子显微术试样制备常用术语.
卫
10 11 13 16 18 20 21
分析电子显微术成像和像处理术语 8 分析电子显微术像诠释和分析术语
7
分析电子显微术像放大倍率和分辨率测量与校准的术语。 10分析电子显微术电子衔射的术语参考文献索引
9 GB/T40300—2021
前言
本文件按照GB/T1.12020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规卿》的规定起草。
本文件修改采用ISO15932：2013《微束分析分析电子显微学术语》。 本文件与IS015932，2013相比，增加了第2章规范性引用文件。 本文件做了以下编辑性修改：
章编号0改为1，章编号1、2、3...8分别修改为3、4、5、6**10 -9.9与5.2.1重复，本文件去了9.9，将9.10改为9.9
-
在参考文献中用与国际文件有一致性对应关系的我国文件代替国际文件，调整了文献顺序，增加了索引。 本文件对ISO15932：2013有误之处进行了更正，主要更正如下：
-更正了缩略语“EDS”和"EDX”的定义；缩略语EPMA的定义增加了“显微分析仪”；缩略语SEM的定义增加了“扫描电子显微镜”， -4.2.1删撑了定义中“动量守恒”的含义； 4.2.2删掉了定义中的*系统”及“和/或动量” -5.1.3.5定义中的“静电场”更正为“电位差”；
soemrn
-5.2.2.3定义中的理想柱面遗镜”更改为理想透镜”，一5.4.2影去了定义中的绕光轴的旋转对称性”，
-
5.7定义中的“试样与形成衔射花样的平面"更正为试样与衔射花样被观繁平面（经中间镜和投影镜放大)之间”； -6.4的定义更改为”同时向试样双面或单面喷射.....”， -6.10定义中的"在TEM观察中”更改为*在电子显微镜观察中”，
-
7.6定义中的“用环形略场探测器接收一支衔射束*更正为用环形暗场探测器接收一支或多
支衍射束”； -8.3定义中增加了“质量厚度”，加了注； -8.6.5将［来源：ISO22493，有修改了”修改为来源：ISO23833，有修改”； 8.6.8定义中的EDS更正为EDX，
-8.6.9定义中的EDS更正为EDX； -8.12.1增加了注多
-9.2.2定义中的"相机常数”更正为“放大倍数”； -9.7定义中的“探针尺寸”更正为“点光源像”， ~10.3.3.1定义中的“垂直堆垛的两个晶体中发生两次布拉格衍射”更正为“晶体中的一次衔射
-
unnau
束再次发生布拉格衔衍射”， --10.3.6更正了会豪束的概念。 请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。 本文件由全国微束分析标准化技术委员会（SAC/TC38)提出并归口。 本文件起草单位：北京科技大学、南昌大学、中国科学院金属研究所。 本文件主要起章人：柳得槽、汤斌兵、贺连龙。
I GB/T40300--2021
引言
分析电子显徽学（AEM)是应用透射电子显微术（TEM）和扫措透射电子显微术（STEM)对固态物质微小体积的晶体结构、元素组成和电子态进行定性、定量测定的技术及其相关理论。AEM分析以电子激发X射线能谱和电子能量损失谱（EELS)的物理机制为基础、并通过微衍射提供微区的结构信息，同时具有高分辨成像能力。
作为微束分析（MBA)的-个主要分领域，AEM广泛应用于各行各业（高技术工业、基础工业、冶金、地质、生物和医学、环境保护、贸易等），而且具有广泛的业务环境进行标准化。
一个技术领域的术语标准化是制定该领域其他方面标准的先决条件。 本文件对于需要用AEM词汇的国际科学和工程群体具有要意义，这些词汇包含MBA与TEM
和STEM相结合的实践中所应用术语的统一定义。
本文件是ISO/TC202（微束分析）研制的一系列标准之一，这些标准包含扫描电子显微术术语（ISO22493）、电子操针显微分析术语（ISO23833）和能谱法定量分析（ISO22309）等。其中有的已经发布，有的仍在研制中，以便完全覆盖MBA领域。
Ⅱ GB/T40300--2021
微束分析分析电子显微学 术语
1范围
本文件界定了在AEM实贱中所用的术语。包含一般概念和特定概念的术语，按照系统顺序中各自的层次分类。
本文件适用于所有和AEM实相关的标准化文件。此外，本文件的某些部分适用于相关领域（如
TEM，STEM，SEM，EPMA，EDX)通用术语的定义。
注：见ISO在线刻览平台（OBP）：httpa：//wWw.iso.org/obp/ui/
2 规范性引用文件
本文件没有规范性引用文件。
3 缩略语
AEM 分析电子显微镜/分析电子显微术（analyticalelectronmicroscope/analyticalelectron
microscopy)
CBED 会聚束电子衔射（convergentbeamelectrondiffraction） CCD
电荷耦合器件（charge-coupleddevice）阴极射线管（cathoderaytube）
CRT EDS X射线能谐仪(energy-dispersiveX-rsyspectrometer) EDX X射线能谱法（energy-dispersiveX-rayspectroscopy） EELS 电子能量损失谱仪/电子能量损失谱术（electronenergylossspectrometer/electroneu-
ergyloss spectroscopy)
EPMA 电子探针显微分析/电子探针显微分析仪（electronprobemicroanalysis/electronprobe
microanslyser)
FFT 快速傅里叶变换（fastFouriertransform） FIB 聚焦高子束（focusedionbeam） FWHM （谱峰）半高宽（fullwidthathalfmaximum） HAADF 高角环形暗场（像）(high-angleannulardarkfield） HREM 高分辨透射电子显微镜/高分辨透射电子显微术（high-resolutiontraasmissionelectron
microscope/high-resolutiontransmission electronmicroscopy)
LAADF 低角环形赌扬（像）(low-angleannulardarkfield） MBA 微东分析（microbeutnanalysis） SE
二次电子(secondaryelectron)
SEM 扫播电子显微镜/扫描电子显微术（scenningelectronmicroscope/scanningelectronmi-
croscopy)
STEM 扫描透射电子显微镜/扫描透射电子显微术（scaruningtransmissionelectronmicroscope/
scanning transmission electron microscopy)
TEM 透射电子显微镜/透射电子显微术（transmissionelectronmicroscope/microscopy）
1 GB/T40300--2021
4分析电子显微学物滋基碱术语
4.1
磨子光学clecaron optics 关于电子通过静电场和/电磁畅运动频遮的科学。 ［【来源：ISO22493，有修改］
4.1.1
电子源 elecbrmnsourc 电子光学系统中形成电子所蓄的电子发射装置，
4.1.1.1
就盘扩展 emargy spread 人射京电子的能量散布。 ［来源：ISO22493，有修改】
4.1.1.2
有效源尺寸 effective souree size 通常在电子束交更福面（会幕点）处测量的电子光源有效尺度， 【来源：ISO22493：有修改】
4.1.2
电子爱射 electrom emmissdan 在一定的激发条件下，电于从材料表面射出。 ［来源：ISO22493:2008，3.1.2]
4.1.2.1
热电子发射 thernonde emdssiom 微靠高和外加电感便阴极中的电子克服功菌教费壁面逸出到真空的电子发射。 ［来源：ISO22493，有修改】
4.1.2.2
爱field cmiaslon 材料表面及近面的强电场导致的电于发射。 厂来须：ISO22493，有修改
4.1.2.2.1
冷汤发射 cmld eld nission 在室温下，完全施加电换从阴极获取电子的参发射。 ［来源：ISO22493，有修改］
4.1.2.2.2
热场发射 thermmsll ffeld eudssiom 由高压电场和高温导致的阴报尖端电子发射。 ［来源：ISO22493，有修改］
4.1.3
电子 electm lens 电子光学系统中利用静电和/或电磁场使电子改变路径的基本组件。
2 GB/T40300-—2021
4.1.3.1
养电透镜 electrostatic lens 应用特定电极结构形成静电场的电子透镜。
4.1.3.2
电磁透镜 electromagnetic lens 利用电磁线圈（或永久磁铁）和极靴的特定组合形成电磁场的电子透镜。 ［来源：ISO22493:2008,3.1.3.2]
4.1.4
乐焦focasing 应用电子透镜使电子束会案到最小直径，［来源：ISO22493，有修改］
4.1.5
缩小倍数 demagnification 缩小[倍]率电子束通过透镜会聚前、后其直径缩小的比率。 ［来源：ISO22493.2008,3.1.5]
4.2
电子散射 # elechron seattering 电子与物质中原子或电子相互作用导致其轨迹和/或动能发生改变的现象。 ［来源：ISO22493和ISO23833，有修改］
4.2.1
弹性散射 felastic scattering 碰擅前后人射电子的能量守恒的电子散射。 ［[来源：ISO22493:2008,3.2.1]
4.2.1.1
零损失峰 zeroloss 未散射电子、弹性散射电子连同声子激发后仅有极小能量摄失的电子在电子能量损失谱中对应的
强度峰。 4.2.2
非弹性散射inelastic scattering 在避撞前后电子能量不守恒的电子散射。 注：对于非弹性散射，电于的运动轨迹由于等高激元敏射损失、内壳层电子激发损失以及其他多重散射事件而
改变。 ［来源：ISO22493，有修改］
4.2.2.1
热漫散射thermal diffuse acattering 晶格热振动引起电子-声子散射而导致的电子散射。
4.2.2.2
等高微元损失 plaemonlosg 电子能量损失谱（EELS）中的一种能量损失，是由试样中的自由电子集体振荡而导致入射电子损
失动能的结果。
3 GB/T40300--2021
4.2.2.3
内壳层电离inner-shellionization 内壳层轨道的一个束缚态电子（非价键）被激发至费米能级以上连续能态的一个未束缚态。
4.2.2.4
芯损失coreloss 内壳属损失人射束电子由于激发试样原子内壳层电子导致的能量损失。
4.2.3
散射截面 面scattering cros5-section 垂直于人射辐照方向的个假想的儿何截面，通过该截面的所有入射辐射（电子）都会被截面中心
的原子所散射。
注：散射裁面一般用面积（m）表示，［来源：ISO224932008,3.2.3]
4.3
布洛赫波Blochwave 一个电子在周期性晶体势场中的波函数，表达为一个平面波包络函数与周期性函数的积，该周期函
数和晶体势场具有相同的周期， 4.3.1
异常吸收 anomalous absorption 当运动于晶体材料中的布洛赫波具有对称性且其波腹形成于原子核心位置时的吸收。
4.3.2
异常穿透 anomaloustransmission 当运动于晶体材料中的布洛赫波具有反对称性且其波节形成于原子核心位叠时的传输。
4.4
相干性coherence 当两束波具有相同的频率和位相时电子束所呈现的波动特性。 注：两束相干被之间的相位移将导致于涉并产生衔射花样。
4.5
透射电子显微术 TEM 透射电子显微镜利用电子束穿透薄试梓形成图像的显微技术或显微镜，
4.5.1
高分辨电子显微术 HREM 应用具有小球差系数的电磁透镜使直射电子波和衍射波干涉获得点阵像和晶体结构像的方法。
4.5.2
扫描透射电子显微术 STEM 扫描透射电子显微镜用会聚电子束在薄试样上扫播的透射电子显微术或显微镜。
4.5.3
高角环形暗场扫描透射电子显微术 HAADF-STEM 扫描透射电子显微镜利用环形暗扬探测器收集高角度的非相干散射电子形成图像的技术。
4