SJ/T 11498-2015
重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法
Test method for measuring oxygen contamination in heavily doped silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
2015-04 -30 发布
2015- 10- 01 实施
前 言
本标准按照GB/T1.1—2009制定的规则起草。
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本标准由全国半导体设备与材料标准化技术委员会（SAC/TC203）归口。