GB/T 40110-2021/ISO 14706:2014
表面化学分析全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence(TXRF) spectroscopy
(ISO14706:2014,IDT)
2021-12-01实施
2021-05-21发布
目 次
前言 …………………………………………………………………………………………………………1
引言 ………………………………………………………………………………………………………… 1
1 范围………………………………………………………………………………………………………1
2 规范性引用文件…………………………………………………………………………………………1
3 术语和定义………………………………………………………………………………………………1
4 缩赂语 ……………………………………………………………………………………………………2
5 原理……………………………………………………………………………………………………….2
6 仪婴设备………………………………………………………………………………………2
7 试样制备及其测量环境…………………………………………………………………………………2
8 校准参考物质…………………………………………………………………………………………… 3
9 安全性……………………………………………………………………………………………………3
10 测量程序………………………………………………………………………………………………… 3
11 结果表达………………………………………………………………………………………………… 4
12精密度…………………………………………………………………………………………………… 5
13 测试报告………………………………………………………………………………………………….5
附录A《资料性》参考物质 ………………………………………………………………………………6
附录B（资释性）相对灵敏度因子.………………………………………………………………………7
附录C（资料性> 参考物质制备…………………………………………………………………………10
附录D（资料性）VPDTXRF法………………………………………………………………………13
附录E（资料性） 掠射角设置……………………………………………………………………………14
附录F（资料性） 国际实验室间试验结果 ………………………………………………………………17
参考文献………………………………………………………………………………………………………2