ICS 21.140 J 22 备案号：32124—2011
JB
中华人民共和国机械行业标准
JB/T7369—2011 代替JB/T7369—1994
机械密封端面平面度
检验方法
Flatness testing method of mechanical seal
2011-05-18 发布
2011-08-01实施
中华人民共和国工业和信息化部发布 JB/T7369—2011
目 次
前言，范围.
II
--
1 2术语和定义 2.1干涉图.. 2.2干涉光谱带（光带）
3检验装置... 4检验程序.. 5平面度测定值的判读.... 附录A（资料性附录）常见干涉光谱带图示例附录B（资料性附录）推荐采用的检验装置结构示意简图. JB/T7369—2011
前言
本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草本标准代替JB/T7369—1994《机械密封端面平面度检验方法》，与JB/T7369—1994相比主要技术
变化如下：
一修改了附录A。 本标准由中国机械工业联合会提出。 本标准由全国机械密封标准化技术委员会（SAC/TC491）归口。 本标准起草单位：合肥通用机械研究院。 本标准主要起草人：李小瓯、郑国运、沈宗沼、李香。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为：
JB/T7369—1994。
II JB/T7369—2011
机械密封端面平面度检验方法
1范围
本标准规定了机械密封端面平面度的术语和定义、检验装置、检验程序、平面度测定值的判读等内容。 本标准适用于采用单色光源的光学法检验机械密封环端面平面度。
2术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
2.1
干涉图interferencefigure 光波干涉产生的干涉条纹（亮带或暗带）所组成的图形。
2.2
干涉光谱带（光带） interference spectral band 干涉图上的暗带。
3检验装置
3.1推荐使用的检验装置结构见附录B。 3.2光源应为单色光源，推荐使用钠光源。 3.3检验用光学平晶应为一级精度（其平面度应在0.02μm～0.10um之间），光学平晶的直径应大于被检密封环端面的外径。 3.4装置放置在于燥、洁净、避免振动扰的工作间内。 3.5装置要有一定的保护元件，避免光束直接照射到观察者的皮肤或眼睛。 3.6如果采用反光镜观察，应保证反光镜没有变形和失真。 4检验程序 4.1检验时，环境温度应控制在（20士5）℃。 4.2打开平面度检测仪的电源开关，预热至灯管充分发光。 4.3清除被检密封环密封端面和光学平晶表面上的纤维、颗粒、油渍、水汽等污物，且使密封环密封端面和光学平晶表面不受损伤，并且保持这些表面在检验过程中不被再次污染 4.4将被检密封环轻轻放置在光学平晶上（或将平晶轻轻放置在密封环上），使密封环端面和光学平晶紧密接触，出现干涉带，判读光谱带数时不应使其受到附加外力的作用。 4.5通过镜面观察密封端面的干涉图形（或透过光学平晶观察密封端面上的干涉图形），判读干涉光谱带。 5平面度测定值的判读 5.1平面度测定值的判读按附录A的规定。每组图由左向右第2、3个为待测平面与平晶成楔形位干涉图，其余4个为待测平面与平晶平行接触位于涉图。光带条数为线段AB穿过暗带的条数。对于附录 A未含的图形，判读者应在正确理解应用光干涉原理的基础上，参照附录A的图例进行判读。 5.2球形凸面和球形凹面确定方法如下：
1 JB/T 7369—2011
a）观察干涉图由上向下移动眼睛，若干涉光谱带向圆心移动，则为球形凹面；若干涉光谱带向外
径移动，则为球形凸面。 b）用手指轻轻地在平晶或密封环外边上加压，若干涉光谱带围着手指弯曲，则为球形凸面；若干
涉光谱带向手指外弯曲，则为球形凹面。
5.3平面度的测定值应按式（1）计算：
(1)
4=0.52
式中： 4一一平面度的测定值，单位为微米（μum）； N一一干涉光谱带数； 2一一单色光波波长，单位为微米（um）比如，目前常用的单色光源-钠光光波波长为入=0.6μm，一条光带时，4为0.3um，即平面度为
0.3 μm。
2 JB/T7369—2011
附录A （资料性附录）
常见干涉光谱带图示例
A.1 一条光带图示如图A.1所示。
O
图A.1
A.2两条光带图示如图A.2所示。
图 A.2 JB/T7369—2011
A.3 三条光带图示如图A.3所示。
图 A.3
A.4多条光带（>三条光带）图示如图A.4所示。
图 A.4 JB/T7369—2011
附录B （资料性附录）
推荐采用的检验装置结构示意简图
推荐采用的检验装置结构示意简图如图B.1所示。
10
d.
D
D>d,>d
接电源
箱体：2- 一活动门：3- 密封环：4 光学平晶；5- 一带孔活动板：玻璃镜：7- 毛玻璃：8- 钠光灯管：9 稳压元件：10一隔光板，
图B.1