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JB/T 7994-2012 超硬磨料 立方氮化硼化学分析方法

资料类别:行业标准

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资料语言:中文

更新时间:2023-11-07 16:53:59



推荐标签: jb 化学分析 方法 氮化硼 磨料 立方 7994

内容简介

JB/T 7994-2012 超硬磨料 立方氮化硼化学分析方法 ICS 25.100.70 J43 备案号:36622--2012
中华人民共和国机械行业标准
JB/T 7994-2012 代替 JB/T 7994—1999
超硬磨料 立方氮化硼化学分析方法
Superabrasive--Chemical analysis method for cubic boran nitricle
2012-11-01实施
2012-05-24 发布
中华人民共和国工业和信息化部发布 JB/T 7994—2012
目 次
前言
III
范围. 规范性引用文件,
1 2
3 分析试样的制备 4氮化硼的测定 4.1方法原理 4.2试剂... 4.3分析方法 4.4分析结果的计算,
4.5 允许误差 5二氧化硅的测定
+000000.0.80++
5.1 方法原理 5.2 试剂. 5.3 仪器. 5.4分析方法. 5.5分析结果的计算 5.6允许误差. 6 三氧化二铁的测定
6.1 方法原理 6.2 试剂 6.3 仪器... 6.4分析方法. 6.5分析结果的计算, 6.6 允许误差三氧化二铝的测定
......0....
7
7.1 方法原理 7.2 试剂 7.3 仪器 7.4 分析方法 7.5 分析结果的计算 7.6 允许误差. 8氧化钙的测定. 8.1 方法原理. 8.2 试剂. 8.3 分析方法 8.4 分析结果的计算, 8.5 允许误差.
6
6 .6

.8
氧化镁的测定
1 JB/T 7994—2012
9.1 方法原理. 9.2 试剂.. 9.3 分析方法. 9.4 分析结果的计算 9.5 允许误差,
8
+..o0.o+....o.+.+....++..............
8 8 8 9
+++++++++++.
II JB/T 7994—2012
前言
本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草。 本标准代替JB/T7994—1999《立方氮化硼化学分析方法》,与JB/T7994—1999相比主要技术变化
如下:
按GB/T20001.4一2001《标准编写规则第4部分:化学分析方法》进行编写;增加了目次和试样的制备;修改完善了氮化硼、二氧化硅、三氧化二铁、三氧化二铝、氧化钙、氧化镁的测定方法。
本标准由中国机械工业联合会提出。 本标准由全国磨料磨具标准化技术委员会(SAC/TC139)归口。 本标准起草单位:郑州磨料磨具磨削研究所、郑州中南杰特超硬材料有限公司、河南富耐克超硬材
料有限公司。
本标准主要起草人:王旭、张相法、吴建中、乔倩、陈学彬。 本标准所代替标准的历次版本发布情况为:
-JB/T 7994—1995,JB/T7994-—1999。
III JB/T7994—2012
亚硫酸钠9g于水中,以水稀释至100mL,贮存于塑料瓶中备用,使用时间为14天。 5.2.6二氧化硅(高纯试剂或光谱纯试剂)。 5.2.7二氧化硅标准溶液(0.01mg/mL)。
准确称取经1000℃灼烧过的二氧化硅(5.2.6)0.1000g,置于铂埚中。加无水碳酸钠(基准试剂)2g仔细混匀,再覆盖0.5g,送入高温炉中,在860℃~900℃熔融20min,取出,旋转,使熔融物附于埚内壁上,冷却,洗净外壁,在250mL聚四氟乙烯烧杯中用热水浸出,冷却后移入1000mL 容量瓶中,用水稀释至刻度,摇匀后,立即移入清洁而干燥的塑料瓶中贮存,备用。1mL此溶液含二氧化硅0.10mg。
用移液管移取上述二氧化硅标准溶液(0.10mg/mL)20mL放入预先盛有盐酸(2mol/L)10mL的 200mL容量瓶中,用水稀释至刻度,摇匀。1mL此溶液含二氧化硅0.01mg。 5.2.8空白溶液:称取氢氧化钠(4.2.1)10g于银埚中,送入高温炉,自室温升至700℃熔融5min,取出,冷却后用热水浸取于250mL烧杯中,立即加盐酸(4.2.2)33mL,加热煮沸5min,移入200mL 容量瓶中,冷却后,用水稀释至刻度,摇匀。 5.3仪器
分光光度计。 5.4分析方法 5.4.1工作曲线的绘制
用移液管移取空白溶液(5.2.8)9份各10mL,分别放入9个100mL的容量瓶中,用微量滴定管依次加入二氧化硅标准溶液(5.2.7)0.00mL、0.50mL、1.00mL、2.00mL、3.00mL、4.00mL、6.00mL、 8.00mL、10.00mL,加水稀释至30mL,调节试液温度至20℃~25℃,加钼酸铵(5.2.3)5mL,放置 10min,加酒石酸(5.2.4)10mL,1、2、4-酸还原剂(5.2.5)3mL,用水稀释至刻度,摇匀,放置30min,用水作参比,在分光光度计上于波长700nm处,用1cm比色Ⅲ测其吸光度,减去空白吸光度后,与相应的二氧化硅质量相对应,绘制工作曲线。 5.4.2试液的制备
称取试样约0.2g,精确至0.0001g,置于银埚中,加氢氧化钠(4.2.1)4g,加盖,盖微启,送入高温炉中,自室温升至700℃熔融10min,取出,旋转埚,使熔融物附于埚内壁上,冷却后用热水浸取于250mL烧杯中,立即加盐酸(4.2.2)13mL,加热煮沸5min~10min,取下,冷却后移入200mL 容量瓶中,用水稀释至刻度,摇匀备用。 5.4.3分析步骤
用移液管移取试液(5.4.2)25mL于100mL容量瓶中,加水35mL,调节试液温度至20℃~25℃,加入钼酸铵溶液(5.2.3)5mL,放置10min,加酒石酸溶液(5.2.4)20mL,1、2、4-酸还原剂溶液(5.2.5) 3mL,用水稀释至刻度,摇匀,放置30min,用水作参比,在分光光度计上于波长700nm处,用1cm 比色皿测其吸光度,减去空白试验的吸光度后,于工作曲线上查出二氧化硅的质量。 5.5分析结果的计算
二氧化硅的质量含量w(SiO2),数值以%表示,按公式(3)计算:
w(sio,) =-m ×100
(3)
Y
mo*V
式中: mi 分取试样溶液中自工作曲线上查得的二氧化硅质量,单位为克(g); mo -试样质量,单位为克(g); Vi一一分取试液的体积,单位为毫升(mL); V-一试验溶液总体积,单位为毫升(mL)。
3
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