2011年第6期（总第18期）
质量技术监督研究
Quality and Technical Supervision Research
电子工业用剧毒气体分析取样
及尾气处理装置的研究
陈熔
（国家化学工业气体产品质量监督检验中心，福建福州350008）
NO.6.2011 General No. 18
摘要：电子工业用剧毒气体取样和排放是整个分析过程中必不可少的重要环节，也是制约当前电子工业用气分析发展的一个重要因素。本研究针对电子工业气体分析前取样和分析后尾气处理环节，设计出一套一体式密闭剧毒气体取样和尾气排放处理装置，实现了样品取样，分析和排放三个过程无缝连接。实际应用效果对比试验表明，采用取样装置吹扫后，进样能快速有效排除管路系统内空气残留，减少了重复进样次数，有效提高了整个分析过程的安全性和精确度，
关键调：电子工业用气体；取样：尾气处理
1引言
电子工业用气体是半导体制造过程中的重要原料，主要用于气相外延生长、化学气相淀积、掺杂（杂质扩散）、蚀刻、离子注入等工艺[1]。这些气体大都具有易燃、易爆、有毒、有害等理化特性，在环境中允许存在的浓度均在mg/m3级别[2)（表1列举了美国政府及工业卫生协会标准对常用氢化物气体在空气中的允许浓度规定），给分析过程造成较大安全隐患。从某种意义上讲，要分析电子工业用气体质量，就必须优先解决有毒气体分析过程中的安全性问题。
表1氢化物气体爆炸范围和允许浓度[2]
氢化物气体在空气中的爆炸范围在空气中的允详依度（美国ACGIK）
硅烷绽储烷种烷乙摄编
0.8%~98% 1.3%~90% 0.8%~98% 0.8%~98% 0.8%~98%
5X10*(6.6ng/-*) 0.3X10*(0.4ag/2) 0.2×10*(0.6mg/) 0. 05×10°(0. 15sg/) 0. 1X10*(0.11s/s)
目前国内外电子气体标准中仅有对产品质量
指标及杂质测定方法的表述，很少提及分析取样及尾气处理方法，这在一定程度上制约了其在实际样品分析中的应用。本研究设计一套分析取样及尾气处理装置，其特点是采用全封闭式的进样方式，从吹扫置换后进样及最后尾气处理均在密闭的管路系统中进行，杜绝了取样过程中样品与空气接触，排放的尾气直接通过解毒装置避免对
环境和人员造成损害，实现了绿色安全排放。 2分析取样装置
2.1取样装置的组成
分析取样装置由吹扫气源、三个三通阔、个开关阀组成，装置流程示意图见图1。
收稿日期：20110830
熔，男，国家化学工业气体产品质量监督检验中心制主任，高级工程师陈
作者篇介：:36· 万方数据