YS/T 666-2008
工业镓化学分析方法杂质元素的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法
Chemical analysis methods of gallium for industrial use—Determination of impurity elements—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
2008-03-12发布
2008-09-01实施
本标准附录 A 为资料性附录。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会提出并归口。
1 范围
本标准规定了工业镓中硅、钠、钾、镁、钙、铝含量的测定方法。
2 规范性引用文件
下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用干本标准，然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。
GB/T602—2002 化学试剂 杂质测定用标准溶液的制备
3 方法提要
试料用盐酸、硝酸溶解，在电热板加热的作用下，将样品制成溶液，于电感耦合等离子体发射光谱仪（ICP-AES）上测定。