ICS 81. 040 Q.30 备案号：344182012
JC
中华人民共和国建材行业标雅
JC/T 2068--2011
镀膜玻璃生产规程
Specification for coated glass manufacture process
2011-12-20发布
2012-07-01实施
中华人民共和国工业和信息化部发布 JC/T2068—2011
前言
本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草。 本标准出中国建筑材料联合会提出。 本标准由全国建筑用玻璃标准化技术委员会（SAC/TC255)归口。 本标准负责起草单位：浙江中力控股集团有限公司、中国建筑玻璃与工业玻璃协会。 本标准参加起草单位：金晶（集团)有限公司、秦皇岛耀华玻璃股份有限公司、威海蓝星玻璃股份有
限公司、格兰特工程玻璃（中山）有限公司、信义玻璃工程（东莞)有限公司、上海北玻镀膜技术工业有限公司、浙江东亚工程玻璃有限公司
本标准主要起草人：王烁、候英兰、张佰恒、李会、许武毅、李越、夏黎海、刘军波、龙霖星。 本标准为首次发布。 JC/T2068—2011
镀膜玻璃生产规程
1范围
本标准规定了镀膜玻璃生产的术语和定义、分类、材料、制作、成品检验以及包装、标志、运输和存。
本标准适用于磁控溅射镀膜玻璃和在线化学气相沉积镀膜玻璃的生产。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅所注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。
GB/T728—1998锡锭 GB/T3620.1-2007钛及钛合金牌号和化学成分 GB/T6382.1平板玻璃集装器具架式集装器及其试验方法 GB/T6382.2平板玻璃集装器具箱式集装器及其试验方法 GB/T20878—2007不锈钢和耐热钢牌号及化学成分 GB/T18915.1镀膜玻璃第1部分：阳光控制镀膜玻璃 GB/T18915.2镀膜玻璃第2部分：低辐射镀膜玻璃 JC/T513平板玻璃木箱包装
3术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
3.1
靶材sputteringtarget 被高速荷能粒了轰击的，可沉积或反应成膜的固体材料。
3. 2
磁控溅射镀膜magnetronsputteringcoating 真空环境中，在电场及磁场的作用下，靶材被气体辉光放电产生的荷能离子轰击，粒子从其表面
射出，在被镀基体表面沉积或反应成膜的工艺过程。 3. 3
镀膜前驱体coatingprecursor 含有构成薄膜成分的化学物质，可通过化学反应在高温基体表面形成膜层。
3. 4
化学气相沉积镀膜chemicatvapordepositioncoating 将镀膜前驱体施加到高温基体表面，在气相-固相界面发生化学反应，在基体表面沉积反应成膜的
工艺过程。 3. 5
1 JC/T2068—2011
工艺气体processgas 磁控溅射过程中用于产生等离了体或发生特定化学反应的一种或儿种气休。化学气相沉积过程中镀
膜前驱体气体、反应气体及载体气体的总称。 3. 6
镀膜反应器 coatingreactor 在化学气相沉积镀膜过程中，将工艺气体喷射到基体表面的特定装置。
3. 7
阴极cathode 在磁控溅射镀膜工艺中，承载靶材实现磁控溅射的装置。装置内包括磁性材料、冷却装置、屏蔽装
置等。 3. 8
可热加工的镀膜玻璃heattreatablecoatedglass 指热加工后膜层性能稳定，各项指标仍符合关国家标准或行业标准的镀膜玻璃。
4分类
4.1按产品性能分为阳光控制镀膜玻璃和低辐射镀膜玻璃。 4.2按生产工艺分为离线磁控溅射镀膜和在线化学气相沉积镀膜。
5材料
5.1磁控溅射镀膜玻璃生产所用材料
磁控溅射镀膜玻璃生产所用材料包括玻璃、靶材、工艺气体、保护膜、干燥剂等，各种材料均应符合相应国家标准或行业标准的要求以及生产工艺要求。材料应有合格证，进口材料应有相关证明。 5.1.1玻璃
磁控溅射镀膜玻璃可选用平板玻璃、防火玻璃、钢化玻璃、夹层玻璃、半钢化玻璃、压花玻璃、超白浮法玻璃等作为基体材料。 5.1.2靶材
磁控溅射镀膜工艺常用靶材可参见附录A。 5.1.3工艺气体
工艺气体包括高纯度的氩气、氮气、氧气等。 5.1.4其他材料
包括保扩膜、干燥剂、隔离粉、珍珠棉、恪性气体等。 5.2化学气相沉积镀膜玻璃材料
化学气相沉积镀膜玻璃生产所用材料包括玻璃、镀膜前驱体、工艺气体等。各种材料均应符合相应国家标准或行业标准的要求，尚无相应标准的材料应符合设计要求。材料应有合格证，进口材料应有相关证明。
2 JC/T2068—2011
5.2.1玻璃
化学气相沉积镀膜玻璃选用平板玻璃、超白浮法玻璃等作为材料。 5.2.2镀膜前驱体
化学气相沉积镀膜工艺常用的镀膜前驱体可参见附录B。
6制作
6.1般要求 6.1.1镀膜玻璃生产企业应具备满足生产要求的设备，并定期进行维护保养。 6.1.2镀膜玻璃生产企业应具备必要的量具和检测设备，并定期进行计量检定。应具备的膜层检测设备有在线分光光度计、离线分光光度计、耐磨试验机和方块电阻测量仪。宜具备辐射率测定仪、红外分光光度计、雾度仪、台阶仪、椭偏仪等。 6.1.3从事镀膜玻璃生产的作业人员，应具备相应的专业技能并经过安全操作培训，持证上岗。 6.1.4镀膜玻璃的生产应具备工艺操作规程、作业指导书、安全操作规程、应急方案等。 6.1.5磁控溅射镀膜的基片宜选用近期生产的玻璃，必要时应进行抛光处理。 6.1.6磁控溅射镀膜玻璃生产应具备上下片台、清洗机、磁控溅射装置、生产监控、在线检测、循环冷却水系统、水处理系统等装置。 6.1.7磁控溅射镀膜工艺室的基础真空度宜优于5×10"Pa。 6.1.8镀膜面宜为玻璃的非锡面。 6.1.9清洗用去离子水电阻宜大了5M2。 6.2磁控溅射镀膜玻璃的制作 6.2.1生产工艺流程
生产工艺流程见图1。
上片
前清洗
包装
镀膜
下片
检测
后消洗
图1 磁控溅射镀膜玻璃生产工艺流程图
6.2.2生产前检查
生产前应进行如下检查： a）消洗用去离子水的电阻： b) 镀膜工艺室的真空度； c) 靶材配置；
工艺气体的种类、纯度、压力； e） 冷却系统的工作状态；
d)
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