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铬-镧镀层的制备及其光谱性能

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更新时间:2024-12-11 14:01:43



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内容简介

铬-镧镀层的制备及其光谱性能 第31卷,第7期 2011年7月
光谱学与光谱分析 Spectroscopy and Spectral Analysis
铬-镧镀层的制备及其光谱性能
刘小珍,王
刚1,2,宋玲玲3,李
昕1,朱旭倩1
1.上海应用技术学院化学与环境工程学院,上海200235
2.上海海洋大学食品学院,上海200090 3.赣南师范学院,江西赣州341000
Vol. 31,No. 7, pp1964-1967
July,2011
用电沉积法分别采用直流电源和脉冲电源制备铬-刚镀层(dc)和铬-澜镀层(pulse)。分别用发射光
摘要
谱法、X衔衍射法、能谱法和描电镜法等对镀层进行表征。络-例镀层(dc)为非晶态镀层,铬-刚镀层(pulse)中含有晶态的刚和碳化铬。-懈镀层(dc)和络-删镀层(pulse)的硬度分别为860.3和930.2HV,比铬镀层的硬度(774.0HV)分别提高了11.15%和20.18%;铬-侧镀层(de)和铬-删镀层(pulse)的磨损质量是铬镀层的损质量的1/1.29和1/2.25。络镀层、络-懈镀层(de)和铬-镀层(pulse)的察擦系数分别为0.884, 0.640和0.648。采用脉冲电源,可提高镀层的耐磨性和硬度,铬-刚镀层(pulse)的磨损质量是络-镀层(dc)
的磨损质量的1/1.75,铬-铜镀层(pulse)的硬度比铬-铜镀/层(de)的硬度提高了8.13%。关键调电沉积;镀层;X衍射谐;能谱
中图分类号:0657.3,TQ153
引言
文献标识码:A
在材料表面形成一层防护层或装饰层的方法中,用电镀的方法是最经济的方法。镀铬层是三大镀种之一,它既可用于装饰性镀层,还可用于功能性镀层",常用的是六价铬镀铬工艺。传统的六价溶液中络酸毒性大,是强致癌物质,对环境污染大。为取代六价铬镀工艺,人们对三价铬镀铬进行了大量研究(31)。目前三价铬镀铬体系主要有氟化物落液体系、硫酸盐溶液体系和氟化物-硫酸盐混合溶液体系。采用含有氟化物溶液体系镀铬,其阳极因产生氯气不利于清洁生产[]。硫酸盐体系三价络电镀过程中阳极没有氯气产生,清洁无污染,不腐蚀设备。在镀液中添加稀土元素,可使镀层的性能提高(12]。我们在硫酸盐体系三价铬镀铬的镀液中添加稀土元素,可提高镀层的耐磨、耐蚀、硬度等(),在此基础上,采用脉冲电源,可再提高镀层的耐磨、耐蚀、硬度等[]。
本文在硫酸盐体系三价铬镀铬的镀液中添加铜元素,用电沉积法分别采用直流电源和脉冲电源制备铬-铜镀层。研究镀层的硬度、磨损质量和摩擦系数等性能。分别用发射光谱法(ICP-AES)、X射线衔射法(XRD)、能谱法(EDAX)和
收稿日期:2010-08-24,修订日期:2010-11-08
DOI; 10. 3964/j. issn. 1000-0593(2011)07-1964-04
扫描电镜法(SEMD等对镀层进行表征。 1实验
1.1铬-铜镀层的制备
采用直流电源,用文献[13]的方法制备铬-镀层[络-端镀层(de)],例离子浓度0.18g·L-1,温度45℃,pH值 2.4,时间30min;搅择速度400r·min=1,电流密度36A. dm-",电沉积铬镀层时,镀液中不含刚离子。
采用脉冲电源,用文献[14]的方法制备铬-懈镀层[铬-镧镀层(pulse)],离子浓度0.18g·L-1,脉冲额率5000 Hz,占空比1/2,时间30min,温度45C,pH值2.4,搅押速度400r·min-1,电流密度45A·dm
测试的仪器及方法
1.2
采用VISTA-MPXICP-OES电感耦合等离子体发射光谱仪分别测定铬-刚镀层(dc)和铬-镀层(pulse)中的质量百分含量(Wt%)。测试条件为:功率1.10kW,等离子体流量15.0L·min-,辅助气流量1.50L·min~1,雾化气压力 200kPa。铬-懈镀层(dc)和铬-例镀层(pulse)中刚的质量百分含量分别为1.05%和1.23%。
采用BrukerAXSMicroanalysisGmbH能谱仪分别对铬
基金项目:国家自然科学基金项目(50972094),上海市教委重点学科项目(J51503),上海市科委重点项目(072305113),上海应用技术学院
项目(KJ2008-07),上海高校特聘教授(东方学者)岗位计划项目(DF2009-02)资助
作者简介:对小珍,1958年生,上海应用技术学院教授万方数据
e-mail; liuxiaozhen1958@yahoo. com
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