2008年27卷第6期
稀有金属快报
电子束蒸发与磁控溅射制备AI/PI
复合薄膜的性能研究
余凤斌1，夏祥华1，朱德明1，夏伟2，冯立明3
(1.山东天诺光电材料有限公司，山东济南250101)(2.山东华光光电子有限公司，山东济南250101)
(3.山东建筑大学，山东济南250101）
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摘要：利用磁控溅射法和电子束蒸发法在聚酰亚胺(PI)薄膜基底上沉积了铝功能膜。测试了两种方法薄膜的膜厚、附着力、反射率、折射率和电导率。结果表明，磁控溅射法制备的铝膜的综合性能较电子束蒸制备的铝膜的性能优越。
关键调：电子束蒸发；磁控溅射：AI/PI膜；性能
中图法分类号：0484.4*1 1前言
文献标识码：A
随着高科技的发展和航天航空与国防建设的需
要，对光学反射镜的要求越来越高。质量轻、分辨率高是目前追求的重要技术指标。以美国和俄罗斯为主的一些科研单位提出了用镀铝聚酰亚胺(PI)薄膜制作反射镜的设想。这种反射镜比光学玻瑙等传统反射镜具有更明显的优势：质量轻，可制成大孔径系统，解决反射镜孔径和质量相互制约的间题；韧性好，可以折叠成很小体积，满足运载火箭承载空间的要求；此外还具有高反射率、高导电性、耐高温性、良好的力学性能、耐老化、制作成本低等优点。使其具有广阔的应用前景(1-3)。制备A1/PI复合薄膜常用的方法有两类：一类是电子束蒸发镀膜技术，另一类是磁控溅射镀膜方法。电子束蒸发镀膜是利用在高真空中产生的高能电子束流轰击埔埚中被蒸材料的表面，使其加热、熔化、蒸发而实现薄膜的蒸镀。磁控溅射主要是利用辉光放电将Ar
收稿日期：2008-03-25
文章编号：10085939(2008)06-021-04
离子撞击靶材表面，靶材原子被弹出后堆积在基材表面形成薄膜。长期以来在生产实践中，由于电子束蒸发与磁控溅射这两种方法在制备薄膜方面各具优势，而且各自采用的设备与工艺不同，产品质量也一直存在争议。本实验针对这问题进行研究，分别采用电子束蒸发镀膜及磁控溅射镀膜两种方法在PI膜基材上制备了A1反射膜材料，分别记为样品1、样品2"，并对其表面形貌、膜厚、附着力、反射率、电导率等重要性能指标进行表征。
实验设备及工艺参数
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2.1蒸发镀膜及工艺参数
选用电子束加热蒸发源。实验过程中采用石墨埚，避免了与AI反应生成化合物而污染AI 膜，埚的位置处在行星架的球心位置，蒸发的时候行星架勾速旋转从而保证成膜厚度的均匀性。蒸发镀AI的工艺参数为：真空度为2.6×10→Pa；蒸发速率为0.1nm/s，基片温度为25℃。
基金项目：国防基础科研项目（B0920061337），济南市科技攻关项目（065012）
作者简介：余风斌，男，1982年生，硕士，山东天诺光电材料有限公司研发部，山东济南250101，电话：0158-63181421