GB/T 39145-2020
硅片表面金属元素含量的测定电感耦合等离子体质谱法
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers— Inductively coupled plasma mass spectrometry
2021-09-01 实施
2020-10-11发布
本标准按照 GB/T1.1—2009 给出的规则起草。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会（SAC/TC 203）与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会（SAC/TC 203/SC 2）共同提出并归口。