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GB/T 37049-2018 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法

资料类别:国家标准

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更新时间:2020-08-12 17:26:14



推荐标签: 金属 质谱 等离子体 多晶硅 电感 测定 含量 杂质 耦合 含量 基体 耦合 杂质

内容简介

GB/T 37049-2018 电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法 GB/T 37049-2018
电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定电感耦合等离子体质谱法
Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
2019-04-01 实施
2018-12-28发布
本标准按照GB/T 1.1 2009给出的规则起草。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口.
 
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