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GB/T 34002-2017 微束分析 透射电子显微术 用周期结构标准物质校准图像放大倍率的方法

资料类别:行业标准

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资料语言:中文

更新时间:2023-12-18 11:46:31



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内容简介

GB/T 34002-2017 微束分析 透射电子显微术 用周期结构标准物质校准图像放大倍率的方法 ICS 71.040.40
G 04
GB
中华人民共和国国家标准
GB/T34002-—2017/ISO29301:2010
微束分析 透射电子显微术 用周期结构标准物质校准图像放大倍率的方法
Microbeam analysis-Analytical transmission electron microscopy- Methods for calibrating image magnification by using reference
materials havingperiodicstructures
(ISO 29301: 2010,IDT)
2018-06-01实施
2017-07-12发布
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会
发布 GB/T34002—2017/IS029301:2010
目 次
前言引言 1 范围 2 规范性引用文件 3 术语、定义和缩写· 4图像放大倍率 4.1 图像放大倍率的定义 4.2 放大倍率的表示 5标准物质 5.1 总则 5.2 对CRM/RM的要求 5.3 储存与装卸校准步骤
II
6
6.1 总则 6.2 安装CRM/RM 6.3 设置校准的TEM操作条件 6.4 数字化图像的获得 6.5 照相底片图像的数字化 6.6 数字图像上角度修正距离D,的测量 6.7 校准像素尺寸的参考标尺的数字化· 6.8 图像放大倍率的校准 6.9 标尺的校准· 6.10 仅用光学底片测量长度的校准法 7 图像放大倍率的精度.·
12
.
13 14 14 15 15 16 16 16
测量结果的不确定度校准报告
8
9
9.1概述 9.2校准报告的内容附录A(资料性附录)影响TEM放大倍率的因素附录B(规范性附录)图像放大倍率校准步骤流程图:附录C(规范性附录)平均化线条数目的确定· C.1确定线条数目以得到平滑轮廊线的方法 C.2实验结果举例…. 附录D(资料性附录)校准放大倍率用的标准物质 D.1校准放大倍率标尺的标准物质(RM)
18 19 20 20 20 22 22 I GB/T34002——2017/ISO29301:2010
D.2校准像素尺寸的标准物质(RM) D.3一些纯元素的晶面间距 D.4具有周期性结构的图像示例. 附录E(资料性附录)TEM放大倍率校准测试报告样本参考文献
22 23 23 24 32
.
Ⅱ GB/T34002—2017/IS029301:2010
前 言
本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草。 本标准使用翻译法等同采用ISO29301:2010《微束分析透射电子显微术 用周期结构标准物质
校准图像放大倍率的方法》。
与本标准中规范性引用的国际文件有一致性对应关系的我国文件如下:
GB/T27025-—2008检测和校准实验室能力的通用要求(ISO/IEC17025:2005,IDT))本标准对原文中的下列错误进行了修正:图1中11数码相机放大倍率M, 学符号是Ag,点阵常数为0.409nm。 本标准由全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC38)提出并归口。 本标准起草单位:北京科技大学。 本标准主要起草人:柳得橹、部欣、权茂华。
Ⅲ GB/T340022017/IS029301:2010
引言
透射电子显微镜广泛地应用于一系列重要材料微/纳米结构的研究,例如半导体、金属、纳米粒子、 聚合物、陶瓷、玻璃、食品以及生物材料。本标准适用于图像放大倍率的校准,规范了应用具有周期结构的有证参考物质或参考物质校准透射电镜图像放大倍率的要求
IV GB/T34002—2017/IS029301:2010
微束分析透射电子显微术用周期结构标准物质校准图像放大倍率的方法
1范围
本标准规定了透射电镜(TEM)在很大放大倍率范围内所记录的图像的校准方法。用于校准的标准物质具有周期性结构,例如衍射光栅复型、半导体的超点阵结构或X射线分析的分光晶体以及碳、金或硅的晶体晶格像。
本标准适用于记录在照相胶片上或成像板上或数字相机内置传感器采集的TEM图像的放大倍率。本标准也可用于校准标尺,但不适用于专用的临界尺寸测长透射电镜(CD-TEM)和扫描透射电镜 (STEM)。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T27025一2008检测和校准实验室能力的通用要求(ISO/IEC17025:2005,IDT) ISOGuide30:1992ISO指南30:1992与参考物质相关的术语和定义(Termsanddefinitions
used in connection with reference materials)
ISOGuide34:2000ISO指南34:2000 参考物质制造者技能的一般要求(Generalrequirements for the competence of reference material producer)
ISOGuide35:2006ISO指南352006参考物质认证的一般原则和统计原理(Referencema- terialsGeneraland statistical principlesfor certification)
ISO/IECGuide98-32008ISO/IEC指南98-3:2008测量的不确定度第三部分:测量不确定度的表达指南[UncertaintyofmeasurementPart3:Guidetotheexpressionofuncertaintyinmeas- urement(GUM:1995)J
ISO5725-1:1994测量方法与结果的精度(准确度和精确度)第一部分:总则和定义[Accuracy (trueness and precision)of measurement methods and resultsPart 1:General principles and defini- tions]
3术语、定义和缩写
ISO指南30中界定的以及下列术语和定义适用于本文件。
3.1
合轴alignment 应用偏转器和/或机械旋钮使电子束的人射方向与光轴重合的一系列操作。
3.2
电子束损伤beamdamage 电子束辐照引起的试样损伤。
1 GB/T34002—2017/IS029301:2010
3.3
标准样品certifiedreferencematerial;CRM 具有证书的标准物质,其一个或更多的特性值由一种方法所证实,该方法确立了准确实现表达这个
特性值单位的溯源性,而且,每个证实的值都具有给定置信度的不确定度
注:对于本标准,一个CRM具有周期性结构,其周期间距和精度在所希望的范围以便用来校准图像的放大倍率。
3.4
污染contamination 由于电子束与样品以及/或者其周围环境互作用而形成的任何材料的沉积层。
3.5
晶体取向crystalorientation 用晶体学指数表示的晶体方向。 注:在TEM成像时使试样的一个特定(低指数)晶带轴平行于或近似平行于电子束方向(光轴)往往很有用。
3.6
失焦defocus 试样的高度位置与物镜物平面不相符的聚焦状态。 注:过焦状态是试样高度比物平面更接近物镜,而欠焦是试样高度比物平面远离物镜。
3.7
衍射光栅复型 diffractiongratingreplica 投影碳复型膜,它构成一个包含有每毫米500到2000条平行槽或者具有类似线间距的网格光栅。 注:衍射光栅复型可以用来作为标样校准低倍到中低倍放大范围的图像放大倍率。
3.8
数码相机digitalcamera 采用芯片阵列图像传感器探测图像的器件,例如电荷耦合器件(CCD)或者互补金属氧化物半导体
(CMOS),该器件将可见图像转换为电信号。 3.9
动态范围dynamicrange 图像信号能够被正确探测时照射在探测器上的可测电子剂量范围。
3.10
励磁电流 excitationcurrent 施加在磁透镜线圈上的电流。
3.11
玻璃标尺 glass scale 刻画了精细刻度的一种尺,可用作参考标尺测量由图像扫描仪数字化的数字图像上的距离。 注:玻璃标尺的透明性和热稳定使之便于用透射式图像扫描仪在成像板上形成接触像以得到数字化的参考像。
3.12
测角台 goniometerstage 可使试样沿水平方向和竖直方向移动的装置,通过倾转试样杆还能使试样绕其纵向倾转。
3.13
水平场宽horizontalfieldwidth:HFW 放大图像上水平方向宽度所对应的原始长度。
3.14
图像image 由TEM形成的试样结构的二维投影。
2 ICS 71.040.40
G 04
GB
中华人民共和国国家标准
GB/T34002-—2017/ISO29301:2010
微束分析 透射电子显微术 用周期结构标准物质校准图像放大倍率的方法
Microbeam analysis-Analytical transmission electron microscopy- Methods for calibrating image magnification by using reference
materials havingperiodicstructures
(ISO 29301: 2010,IDT)
2018-06-01实施
2017-07-12发布
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会
发布 GB/T34002—2017/IS029301:2010
目 次
前言引言 1 范围 2 规范性引用文件 3 术语、定义和缩写· 4图像放大倍率 4.1 图像放大倍率的定义 4.2 放大倍率的表示 5标准物质 5.1 总则 5.2 对CRM/RM的要求 5.3 储存与装卸校准步骤
II
6
6.1 总则 6.2 安装CRM/RM 6.3 设置校准的TEM操作条件 6.4 数字化图像的获得 6.5 照相底片图像的数字化 6.6 数字图像上角度修正距离D,的测量 6.7 校准像素尺寸的参考标尺的数字化· 6.8 图像放大倍率的校准 6.9 标尺的校准· 6.10 仅用光学底片测量长度的校准法 7 图像放大倍率的精度.·
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13 14 14 15 15 16 16 16
测量结果的不确定度校准报告
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9.1概述 9.2校准报告的内容附录A(资料性附录)影响TEM放大倍率的因素附录B(规范性附录)图像放大倍率校准步骤流程图:附录C(规范性附录)平均化线条数目的确定· C.1确定线条数目以得到平滑轮廊线的方法 C.2实验结果举例…. 附录D(资料性附录)校准放大倍率用的标准物质 D.1校准放大倍率标尺的标准物质(RM)
18 19 20 20 20 22 22 I GB/T34002——2017/ISO29301:2010
D.2校准像素尺寸的标准物质(RM) D.3一些纯元素的晶面间距 D.4具有周期性结构的图像示例. 附录E(资料性附录)TEM放大倍率校准测试报告样本参考文献
22 23 23 24 32
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Ⅱ GB/T34002—2017/IS029301:2010
前 言
本标准按照GB/T1.1一2009给出的规则起草。 本标准使用翻译法等同采用ISO29301:2010《微束分析透射电子显微术 用周期结构标准物质
校准图像放大倍率的方法》。
与本标准中规范性引用的国际文件有一致性对应关系的我国文件如下:
GB/T27025-—2008检测和校准实验室能力的通用要求(ISO/IEC17025:2005,IDT))本标准对原文中的下列错误进行了修正:图1中11数码相机放大倍率M, 学符号是Ag,点阵常数为0.409nm。 本标准由全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC38)提出并归口。 本标准起草单位:北京科技大学。 本标准主要起草人:柳得橹、部欣、权茂华。
Ⅲ GB/T340022017/IS029301:2010
引言
透射电子显微镜广泛地应用于一系列重要材料微/纳米结构的研究,例如半导体、金属、纳米粒子、 聚合物、陶瓷、玻璃、食品以及生物材料。本标准适用于图像放大倍率的校准,规范了应用具有周期结构的有证参考物质或参考物质校准透射电镜图像放大倍率的要求
IV GB/T34002—2017/IS029301:2010
微束分析透射电子显微术用周期结构标准物质校准图像放大倍率的方法
1范围
本标准规定了透射电镜(TEM)在很大放大倍率范围内所记录的图像的校准方法。用于校准的标准物质具有周期性结构,例如衍射光栅复型、半导体的超点阵结构或X射线分析的分光晶体以及碳、金或硅的晶体晶格像。
本标准适用于记录在照相胶片上或成像板上或数字相机内置传感器采集的TEM图像的放大倍率。本标准也可用于校准标尺,但不适用于专用的临界尺寸测长透射电镜(CD-TEM)和扫描透射电镜 (STEM)。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T27025一2008检测和校准实验室能力的通用要求(ISO/IEC17025:2005,IDT) ISOGuide30:1992ISO指南30:1992与参考物质相关的术语和定义(Termsanddefinitions
used in connection with reference materials)
ISOGuide34:2000ISO指南34:2000 参考物质制造者技能的一般要求(Generalrequirements for the competence of reference material producer)
ISOGuide35:2006ISO指南352006参考物质认证的一般原则和统计原理(Referencema- terialsGeneraland statistical principlesfor certification)
ISO/IECGuide98-32008ISO/IEC指南98-3:2008测量的不确定度第三部分:测量不确定度的表达指南[UncertaintyofmeasurementPart3:Guidetotheexpressionofuncertaintyinmeas- urement(GUM:1995)J
ISO5725-1:1994测量方法与结果的精度(准确度和精确度)第一部分:总则和定义[Accuracy (trueness and precision)of measurement methods and resultsPart 1:General principles and defini- tions]
3术语、定义和缩写
ISO指南30中界定的以及下列术语和定义适用于本文件。
3.1
合轴alignment 应用偏转器和/或机械旋钮使电子束的人射方向与光轴重合的一系列操作。
3.2
电子束损伤beamdamage 电子束辐照引起的试样损伤。
1 GB/T34002—2017/IS029301:2010
3.3
标准样品certifiedreferencematerial;CRM 具有证书的标准物质,其一个或更多的特性值由一种方法所证实,该方法确立了准确实现表达这个
特性值单位的溯源性,而且,每个证实的值都具有给定置信度的不确定度
注:对于本标准,一个CRM具有周期性结构,其周期间距和精度在所希望的范围以便用来校准图像的放大倍率。
3.4
污染contamination 由于电子束与样品以及/或者其周围环境互作用而形成的任何材料的沉积层。
3.5
晶体取向crystalorientation 用晶体学指数表示的晶体方向。 注:在TEM成像时使试样的一个特定(低指数)晶带轴平行于或近似平行于电子束方向(光轴)往往很有用。
3.6
失焦defocus 试样的高度位置与物镜物平面不相符的聚焦状态。 注:过焦状态是试样高度比物平面更接近物镜,而欠焦是试样高度比物平面远离物镜。
3.7
衍射光栅复型 diffractiongratingreplica 投影碳复型膜,它构成一个包含有每毫米500到2000条平行槽或者具有类似线间距的网格光栅。 注:衍射光栅复型可以用来作为标样校准低倍到中低倍放大范围的图像放大倍率。
3.8
数码相机digitalcamera 采用芯片阵列图像传感器探测图像的器件,例如电荷耦合器件(CCD)或者互补金属氧化物半导体
(CMOS),该器件将可见图像转换为电信号。 3.9
动态范围dynamicrange 图像信号能够被正确探测时照射在探测器上的可测电子剂量范围。
3.10
励磁电流 excitationcurrent 施加在磁透镜线圈上的电流。
3.11
玻璃标尺 glass scale 刻画了精细刻度的一种尺,可用作参考标尺测量由图像扫描仪数字化的数字图像上的距离。 注:玻璃标尺的透明性和热稳定使之便于用透射式图像扫描仪在成像板上形成接触像以得到数字化的参考像。
3.12
测角台 goniometerstage 可使试样沿水平方向和竖直方向移动的装置,通过倾转试样杆还能使试样绕其纵向倾转。
3.13
水平场宽horizontalfieldwidth:HFW 放大图像上水平方向宽度所对应的原始长度。
3.14
图像image 由TEM形成的试样结构的二维投影。
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