超大规模集成电路微细加工技术 
 高存贞译 日本财团法人半导体研究振兴会编  
 
1981

本书以超大规模集成电路中的微细加工技术为主要内容,叙述了光致抗蚀剂及电子束抗蚀剂的材料及其物理化学性质;光掩模技术;光、电子束、X射线刻蚀技术;位置控制技术;离子腐蚀、干腐蚀技术;氟化碳体系化合物的性质及制法;离子镀膜的基础及应用,等离子体表面处理及薄膜生成等。