连续离子层吸附反应法制备超薄功能膜及应用
石亚平12高　燕”孙承月
吴宜勇
(1哈尔滨工业大学材料科学与T程学院，哈尔滨150080）
（2哈尔滨商业大学，哈尔滨150028）
（3西部金属材料股份有限公司，西安710000）
文摘阐述了液相法中制备超涛功能膜的新方法—一连续离子层吸附反应法（SuccessiveIonicLayen AdsorptionandReaction，Sll.AR)。探究了它的薄膜生长机理、工艺参数影响以及应用现状，指出了尚需深入研究的问题。
关键词连续离子层吸附反应法，超薄，功能膜，工艺参数
SILARMethodforPreparationofUltra-ThinFunctionalFilmandItsApplication
Shi Yaping'2Gao Yan
Sun Chengyue'Wu Yiyong"
(1School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology , Harbin 150080)
(2 Harbin University of Commerce, Harbin 150028)
(3 Westem Metal Materials Limited Liabilty Company, Xi'an 71000)
AbstractA new technique called SILAR (Successive lonic Layer Adsorption and Reaction) for the preparation of ultra-thin functional film and its development are introduced. The mechanism of the film nucleation and growth,the saaseeeeeoeaeaaaeesa poined out as well.
Key words SILAR technique,Ultra-thin,Functional film, Technics parameters
0引言
当在材料表面发生例如化学催化、光学反射、场致发射和热电子逸出时，使用功能薄膜材料相比于块体材料既保护资源文降低成本，而且薄膜材料往往具有一些块体材料所不具备的性能。这是因为薄膜材料容易形成细晶、非晶状态，容易处于亚稳态，往往偏离化学计量比，具有特殊的材料表面能态等)。它与电、光、磁、声、热等相互作用可能会表现出特殊的电学、电子学、光学、光电子学、热学、化学（催化）、生物学以及压电等物理性能，在微电子元器件制造、纳米科技和催化表面科学等方面具有广阔的市场需求和应用前景12)。
连续离子层吸附反应法（SuccessivelonicLayer AdsorptionandReaction，SIIL.AR)是由法[科学家Y. K.Nicolau于1985年首先提出并用于获得ZnS和 CdS薄膜的l3），也被称为软溶液L艺（softsolution processing）14或软化学方法(3)，它是在化学浴流积
收稿目期：2009-1102：修期：2009-12-03
（ChemicalBathDeposition）和原子层外延生长（Atom icLayerEpitaxy)的基础上发展起来的一种化学法成膜技术]。随若科技发展，SILAR技术已经用于硫化物、氧化物、硒化物等多种功能膜的沉积。本文主要介绍了SILAR法薄膜的生长机理、工艺参数及应用现状。
SILAR法沉积原理与过程 1
SILAR法沉积是利用持定溶液中的前驱体离子（离子团)在活性基体材料表而的化学吸附以及吸附层的离子间化学反应，反应产物沉积于基材表面形成表面改性层的沉积工艺。它通过离子在基体上的吸附形成吸附离子层，吸附的离子与配位离子间发生反应生成沉淀，或者吸附离子自身进行水解反应生成沉淀，吸附离子层转化为固态膜层，薄膜就实现了纳米尺度的生长，通过控制前驱体潜液中阴阻离了的浓度和重复上述过程循环的次数就可以控制薄膜的厚度。
SIIAR法反应通常为四个步骤：（1)基体在I标化
作名简介：石业率，1976年出生，博t：研究生，讲师，主要从事超薄功能膜的制备和应川研究。E-mail：chanyur6300ehotmail.eom
http://www.yhelgy.com"i航材料I.艺2010年第4期
万方数据
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