ICS 29.045 CCS H 82
中华人民共和国国家标准
GB/T 41652—2022
刻蚀机用硅电极及硅环
Silicon electrode and silicon ring for plasma etching machine
2023-02-01实施
2022-07-11发布
国家市场监督管理总局
发 布
国家标准化管理委员会
GB/T 41652—2022
刻蚀机用硅电极及硅环
1 范围
本文件规定了刻蚀机用硅电极及硅环的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和随行文件以及订货单内容。
本文件适用于p<100>直拉硅单晶加工成的刻蚀机用直径200mm～450mm的硅电极及硅环。
2 规范性引用文件
下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件，仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。
GB/T1550 非本征半导体材料导电类型测试方法
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GB/T 29505 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
3 术语和定义
GB/T14264界定的以及下列术语和定义适用于本文件。3.1
平面度 flatness
硅电极或硅环厚度的最大值与最小值之间的差值。
4 技术要求
4.1 电学参数
硅电极及硅环的电学参数应符合表1的规定。