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GB/T 1551-2021 硅单晶电阻率的测定直排四探针法和直流两探针法

资料类别:国家标准

文档格式:PDF电子版

文件大小:12.8 MB

资料语言:中文

更新时间:2021-07-16 17:54:46



推荐标签: 1551 直流 电阻率 测定 针法 单晶 硅单晶 探针 直排四 针法 单晶

内容简介

GB/T 1551-2021 硅单晶电阻率的测定直排四探针法和直流两探针法 GB/T 1551-2021代替GB/T 1551-2009
硅单晶电阻率的测定直排四探针法和直流两探针法
Test method for measuring resistivity of monocrystal silicon-In-line four-point probe and direct current two-point probe method
2021-05-21发布
2021-12-01实施
前言
本文件按照GB/T1.1-2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定
本文件代替GB/T1551-2009《硅单品电阻率测定方法》,与GB/T1551-2009相比,除结构调整和编辑性改动外,主要技术变化如下:
a)更改了直排四探针法的适用范围(见第1章,2009年版的第1章);
b)“范围”中增加了“硅单品其他范围电阻率的测试可参照本文件进行”(见第1章);
c)增加了规范性引用文件GB/T14264(见第2章):
d)增加了“术语和定义”(见第3章);
e)更改了测试环境温度的要求(见第4章,2009年版的第2章、第13章);
f)更改了“干扰因素”中光照对测试结果的影响(见5.1.2009年版的3.1、14.1);
8)增加了少数载流子注入对测试结果具体影响的干扰因素(见5.3);
h)更改了“干扰因素”中温度对测试结果的影响(见5.4,2009年版的3.4、14.4);
i)增加了探针振动、探针头类型对测试结果影响的干扰因素(见5.5、5.6);
j)增加了直排四探针法测试时样品发熟、探针与样品接触的位置对测试结果影响的干扰因素[见5.7a)、5.7c)];
k)增加了直流两探针法测试时样品电阻率不均匀、存在轻微裂痕或其他机械损伤、导电类型不唯一对测试结果影响的干扰因素(见5.8);
1)删除了直流两探针法测试干扰因素中探针间距的内容(见2009年版的14.6);
m)更改了直排四探针法的测试原理(见6.1,2009年版的第4章);
n)增加了直排四探针法中“试剂和材料”(见6.2);
o)更改了直排四探针法中对针尖形状和初始标称半径的要求[见6.3.1a).2009年版的5.1.1]:
p)更改了直排四探针法中标准电阻的要求[见6.3.2c)、2009年版的5.2.];
g)更改了直排四探针法中散热器的要求(见6.3.4,2009年版的5.4);
r)更改了直排四探针法中制样装置的要求(见6.3.5.2009年版的5.5);
s)更改了直排四探针法中厚度测试仪的要求(见6.3.6,2009年版的5.6);
t)删除了直排四探针法中超声波清洗器、化学实验室器具的要求(见2009年版的5.13、5.14);
u)更改了直排四探针法中样品表面处理的描述(见6.4.1,2009年版的6.1);
v)增加了电阻率大于3000Ω·cm样品对应的推荐圆片样品测试电流值(见表2,2009年版的表
w)删除了不同电阻率样品对应的测试电流(见2009年版的表2);
x)更改了直排四探针法中电学测试装置的要求(见6.5.1.6,2009年版的7.1.6);
y)更改了直排四探针法中确定探针间距用材料的要求(见6.5.2.1.2009年版的7.2.1);
x)删除了直排四探针法测试中样品清洗、干燥的过程(见2009年版的7.3.1);
aa)删除了直排四探针法测试中对于圆片试样的特殊要求(见2009年版的7.3.2、7.3.3);
bb)删除了直排四探针法测试圆片时探针阵列位置的要求(见2009年版的7.3.4);
cc)更改了直排四探针法测量组数的要求(见6.5.3.7.2009年版的7.3.8);
dd)更改了直排四探针法测试精密度的内容(见6.7.2009年版的第9章);
ce)更改了直排四探针法的测试原理(见7.1,2009年版的第15章);
ff)剧除了直流两探针法“试剂”中的丙酮、乙醇(见2009年版的16.2、16.3);
gg)更改了直流两探针法中欧姆接触材料和磨料的要求(见7.2.2,7.2.3.2009年版的16.4、16.5);
hh)增加了直流两探针法中显微镜放大倍数的要求(见7.3.5);
ii)刷除了直流两探针法中的化学实验室设备(见2009年版的17.7);
j)剧除了直流两探针法“试样制备”中对晶体导电类型的要求(见2009年版中的18.1);
kk)更改了直流两探针法在第二测量道上测试的条件(见7.4.2、7.5.3.10.2009年版的18.2、19.3.10);
11)更改了直流两探针法中样品表面处理的描述(见7.4.3、7.4.4,2009年版的18.3、18.4);
mm)更改了直流两探针法测试设备适用性检查中模拟电阻平均值R。的要求(见7.5.2.2,2009年版的19.2.2.3);
nn)更改了直流两探针法测试精密度的内容(见7.7.2009年版的第21章)。
请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。
本文件由全国半导体设备与材料标准化技术委员会(SAC/TC203)和全国半导体设备与材料标准
化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC203/SC2)共同提出并归口。
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