GB/T 35310-2017
200mm硅外延片
200 mm silicon epitaxial wafer
2018-07-01 实施
2017-12-29 发布
本标准按照 GB/T1.1—2009 给出的规则起草。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会（SAC/TC 203）与全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会（SAC/TC 203/SC 2）共同提出并归口。