书名:薄膜材料制备原理、技术及应用
作者:唐伟忠著

出版时间:1998.5

简介:
本书讨论了薄膜材料制备技术中常用的真空技术、各种物理化学气相沉积技术、薄膜材料的微观结构的形成以及薄膜材料的厚度、微观结构和成分的表征方法。 

目录:
1 薄膜制备的真空技术基础
1.1 气体分子运动论的基本概念
1.2 气体的流动状态和真空抽速
1.3 真空泵简介
1.4 真空的测量
参考文献
2 薄膜的物理气相沉积（Ⅰ）——蒸发法
2.1 物质的热蒸发
2.2 薄膜沉积的厚度均匀性和纯度
2.3 真空蒸发装置
参考文献
3 薄膜的物理气相沉积（Ⅱ）——溅射法及其他PVD方法
3.1 气体放电现象与等离子体
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