YS/T 899-2013
高纯钽化学分析方法痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法
Methods for chemical analysis of high purity tantalum— Determination of trace impurity element content— Glow discharge mass spectrometry
2014-03-01实施
2013-10-17 发布
本标准按照 GB/T 1.1--2009 给出的规则起草。
本标准由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC 243）归口
1范围
本标准规定了高纯钽中痕量元素含量的测定方法，测定元素见表 1。
本标准适用于高纯钽中痕量元素含量的测定。除铌、钼、钨外各元素测定范围为1 μg/kg～ 5 000 μg/kg，铌、钼和钨的测定范围为 1 μg/kg～100 000 μg/kg。
2 方法原理
试料作为阴极进行辉光放电，其表面原子被溅射而脱离试料进入辉光放电等离子体中，离子化后再被导入质谱仪中进行测定。在每一元素同位素质量数处以预设的扫描点数和积分时间对相应谱峰积分，所得面积即为谱峰强度。在缺少标准样品时，计算机根据仪器软件中的"典型相对灵敏度因子"自动计算出各元素的质量分数;有标准样品时，则需要通过在与被测样品相同的分析条件、离子源结构以及测试条件下对标准样品进行独立测定获得相对灵敏度因子，应用该相对灵敏度因子计算出各元素的质量分数。