TFT-LCD技术：结构、原理及制造技术
作　者： 申智源 编著
出版时间： 2012
内容简介
　　《TFT-LCD技术：结构、原理及制造技术》全面介绍了TFT-LCD的结构、显示原理及特性、制造技术。第一部分介绍技术发展、分类、工作原理及基本结构。第二部分介绍液晶的物理特性、显示模式、TFT结构及工作原理、TFT-LCD结构及显示原理、显示特性改善。第三部分介绍TFT-LCD的制造技术与生产经验，包括非晶硅TFT-LCD的工艺流程、制造技术、不良检查与分析及低温多晶硅TFT的工艺流程与制造技术。第四部分介绍TFT器件及显示技术的进展与展望，包括有机TFT、氧化物TFT、三维立体显示、透明显示器以及柔性显示等。
目录
第1章　TFT－LCD技术概要
1.1　TFT－LCD技术发展历史
1.2　液晶显示器的分类
1.3　矩阵式液晶显示器的工作原理
1.4　TFT－LCD的基本结构
第2章　液晶的基本物理特性
2.1　液晶的相结构与分类
2.1.1　向列相（Nematic）液晶
2.1.2　胆甾相（Cholesteric）液晶
2.1.3　近晶相液晶
2.1.4　盘状（Discotic）液晶
2.2　液晶的连续弹性体理论
2.2.1　液晶的弹性能密度
2.2.2　液晶在电场中的自由能密度
2.2.3　平衡态下液晶指向矢分布计算
2.2.4　动态平衡方程
2.3　弗里德里克斯转变（FrederickszTransition）
2.3.1　展曲形变
2.3.2　弯曲形变
2.3.3　扭曲形变
2.3.4　动态弗里德里克斯效应
2.4　液晶的表面配向
2.4.1　表面配向理论
2.4.2　配向方法
2.4.3　表面锚定能（SurfaceAnchoringEnergy）
2.5　液晶指向矢分布的数值计算方法
2.5.1　动态平衡方程
2.5.2　数值计算方法
2.6　光在液晶显示器中的传播
2.6.1　电动力学基础
2.6.2　琼斯（Jones）矩阵法
第3章　LCD模式及其特性
3.1　扭曲向列相（TN）模式
3.1.1　TN模式的结构以及显示原理
3.1.2　阈值特性与液晶指向矢分布
3.1.3　光透过率特性
3.1.4　视角特性
3.1.5　响应时间特性
3.2　共面开关（In－PlainSwitching，IPS）模式
3.2.1　IPS模式结构以及显示原理
3.2.2　阈值特性与液晶指向矢分布
3.2.3　光透过率特性
3.2.4　视角特性
3.2.5　响应时间特性
3.3　边缘场开关（Fringe－FieldSwitching，FFS）模式
3.3.1　FFS模式结构以及工作原理
3.3.2　FFS模式的电场分布
3.3.3　光透过率特性
3.4　垂直取向（VerticalAlignment，VA）模式
3.4.1　VA模式结构以及显示原理
3.4.2　阈值特性
3.4.3　光透过率特性
3.4.4　视角特性
3.4.5　响应时间特性
第4章　TFT结构以及工作原理
4.1　半导体器件基础
4.1.1　金属－半导体（MS）接触
4.1.2　MOS电容的结构和原理
4.1.3　MOSFET