内 容 简 介
本书系统地介绍了微电子制造科学原理与.L科技术，覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺，包括光刻、等离了体和反应离子刻蚀、离了注人、扩散、氧化，蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等∶对每一种单项】.艺，不仅介绍了它的物理和化学原理、还描述了用于集成电路制造的工乞设备。本书还介绍了各种先进的工艺技术，如快速热处理、卜一代光刻、分子束外延和舍属有机物化学气相淀积等、在此基础上本书讨论了如何将这些单项L艺集成为各种常见的集成电路工艺技术．如CMOS技术、双极型技术和砷化缘技术.还介绍了微电子制造的新领域.即微机械电了系统及其工艺技术
本书可作为高等学校微电子专业本科生和研究生柑应课程的教科书或参考书、也可供与集成电路制造工艺技术有关的专业技术人员学习参考。