内容简介
缺陷和杂质严重影响材料的性能。计算能力的增强和高效率算法的 发展预示了计算缺陷科学光明的未来。本书概述了电子结构方法最新研 究进展，对杂化泛函、LDA+U方法、含时DFT、量子蒙特卡洛和多体微 扰理论的应用进行了描述和评价。模型中对于处理大系统和温度效应， 以及有限尺寸效应的方法同样也进行了回顾。本书为理论和计算缺陷物 理领域中的初学者提供了入门参考，也为从业者提供了指南。 本领域中的权威编辑，选择了受人尊敬的科学家作为每章的作者为 读者提供最新发展的专业观点。本书清晰地概述了不同方法之间的联系 和界限，以及对于一个给定的问题从这些方法中如何选择的标准。