集成电路掩模版图设计是实现集成电路制造所必不可少的设计 环节，它不仅关系到集成电路的功能是否正确，而且也会极大程度地 影响集成电路的性能、成本与功耗。近年来迅速发展的计算机、通信、 嵌入式或便携式设备中集成电路的高性能低功耗运行都离不开集成 电路掩模版图的精心设计。一个优秀的掩模版图设计者对于开发超 性能的集成电路是极其关键的. 集成电路掩模版图设计是一门技术.它需要设计者具有电路系统 原理与工艺制造方面的基础知识。但它更需要设计者的创造性、空间 想像力和耐性，需要设计者长期工作的经验和知识的积累，需要设计 者对日新月异的集成电路发展密切关注和探索。然而，集成电路掩模 版图设计不仅仅是一门技术，还是一门艺术。设计出一套符合设计规 则的“正确”版图也许并不困难，但要设计出最大程度体现高性能低功 耗低成本、能实际可靠工作的芯片版图却不是一朝一夕能学会的事 情。《集成电路掩模设计——基础版图技术》(IC Mask Design, Essential Layout Techniques)一书正是从这些角度出发，力图为读者 刻画出集成电路掩模版图设计的一养幕生动活泼的场景，充分展示作 者和其他版图设计工程师在多年设计实践中所积累和总结的经验，提 供许多在一般电子学教科书和参考书中没有的材料，使读者能在尽可 能短的时间内掌握集成电路掩模版图设计的基本規律和技巧•在自己 的工作中得益和发展。 本书可作为本科生和研究生有关集成电路设计方面课程的教科 书或指导书，也可作为从事电路和版图设计的工程技术人员的参考 书。
全书共分为11章，覆盖了数字电路、模拟电路、标准单元、高频电路、双极型和射频集成电路的版图设计技术，讨论了版图设计中有关 匹配、寄生参数、噪声、布局、验证、封装等问题及数据格式，最后还提 供了两个实例研究即CMOS运算放大器与双极型混频器的版图设 计。这些精心组织的材料不仅提供了对版图设计一步一步的细节指 导，有利于读者深刻理解版图设计的全过程，而且也展示了在版图设 计中的关健技术，使读者可直接把它们应用于日常的工作中。