本卷书是由Chris Toumazou试图为"电流模模拟集成电路设计”研究组发表一些学术短文 的设想而引发出版的’而这些学术短文是编者为1990年4月30日在New Orleans举行的1990年 IEEE国际电路与系统专题讨论会的部分内容而组织的： 从联系作者到出触只有五个月的时间，这看来令人气馁，但Chris和John表现出冲天于劲与 极大热情，作者们造诣极高、成就卓越，二者结合起来意味着这项工作必定能向前进展。出版者同 意以非常短的时间印刷手稿以示帮助’ 最终，编者终于出版了这卷书，此书远远胜过研究组原始论文，成为现代集成电路设计技术 的’圣经”。它是对电路与系统丛书中的第1卷——《碑化镣工艺及其对电路与系统的影响》的完 美补充，而且将对本科生、研究生、学术界和电子工业界的研究人员与电路设计者大有裨益。