第20卷第11期 2012年11月
文章编号1004-924X(2012)11-2380-09
光学精密工程
Optics and Precision Engineering
全息光栅制作中光栅掩模槽形形状随光刻胶特性曲线的演化规律韩建1.2，巴音贺希格"，李文昊，孔1,2
（1.中国科学院长春光学机密机械与物理研究所，吉林长春130033：
2.中国科学院大学，北京100049）
Vol.20No.11
Nov.2012
摘要：为分析光栅槽形形成的基本原理及槽形随光刻胶特性曲线的演化规律，建立了显影过程中光栅掩模槽形形成的演化模型。基于光刻胶溶解速率在不同噪光量区间的变化，将光刻胶特性曲线分成3个不同区域并分析各区域在光栅掩
显著时，掩模槽形易形成矩形或梯形，此时槽深由原始胶厚决定；当光刻胶线性效应较显著时，槽形形成正弦形同时槽深有所减小。该模型正确反映了光栅槽形随光刻胶特性曲线变化的演化规律，为通过控制光刻胶特性曲线制作多种掩模槽形提供了理论依据及方法，
关键调：全息光栅；非线性效应；糖深；掩模槽形；光划胶
中图分类号：O436.1;TN305.7
文献标识码：A
doi:10, 3788/OPE, 20122011. 2380
Grooveprofileevolutionofgratingmasksfor
different photoresistresponse curves in fabrication of
holographicgratings
HAN Jian'-2·, Bayanheshig', LI Wen-hao',KONG Peng'.
(1,ChangchunInstitute of Optics,FineMechanics and Physics，
ChineseAcademyof Sciences,Changchun130033,China;
2.UniversityofChineseAcademyofSciences,Beijing100049,China)
*Correspondingauthor,E-mail:hanjian523@163.com
Abstract: To analyze the principle of profile formation for grating masks and the evolution of photore sist response curves, a simulation model of profile formation for grating masks in development was es-tablished. Based on the difference of photoresist dissolution rate in the different regions, the complete photoresist curve was divided into three sections, the effect of each section in the profile formation of grating masks was analyzed, then the simulation surface-relief profile model was presented. The ex perimental results indicate that the groove profile inclines to be rectangular or trapezoidal when the
收稿日期：2012-04-07：修订日期：2012-06-16.
基金项目：国家自然科学基金资助项目（No，60478034）；国家创新方法工作专项资助项目（No，2008IM040700）；国
家重大科学仪器设备开发专项资助项目（No.2011YQ120023)；中国科学院知识创新工程资助项目（No， 100132H100)